中国组织工程研究 ›› 2010, Vol. 14 ›› Issue (42): 7829-7834.doi: 10.3969/j.issn.1673-8225.2010.42.010
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谢占涛1,李建辉1,钱军民2,黄 石1,万 真1,于 良1,刘 昌1,吕 毅1
Xie Zhan-tao1, Li Jian-hui1, Qian Jun-min2, Huang Shi1, Wan Zhen1, Yu Liang1, Liu Chang1, Lü Yi1
摘要:
背景:磁力压榨式吻合器以其优越的性能受到越来越多的关注,但是其留置体内会对机体造成不良影响,可降解磁力吻合器有望解决此问题。 目的:制备适于外科吻合用的硅胶表面修饰的壳核结构纳米钕铁硼(SiO2/Nd-Fe-B)磁性材料,并评价其细胞毒性。 方法:高能球磨法制备纳米钕铁硼(Nd-Fe-B)材料,溶胶-凝胶法对其进行表面修饰。MTT法检测纳米SiO2/Nd-Fe-B材料的细胞毒性,纳米SiO2/Nd-Fe-B材料与L929细胞共培养,观察其在细胞内分布以及细胞器的改变,传代培养检测粒子代谢情况。 结果与结论:成功制备出纳米SiO2/Nd-Fe-B材料,MTT法检测材料浸提液细胞毒性分级为1级,其吸光度值与空白对照组相比差异无显着性意义(P > 0.05)。纳米SiO2/Nd-Fe-B材料可以通过胞吞方式进入细胞内,其在胞内分布于细胞浆中,TEM观察细胞线粒体轻微水肿,内质网扩张。传代培养发现3代内胞内纳米材料迅速减少。提示高能球磨法结合溶胶-凝胶法可以制备纳米SiO2/Nd-Fe-B材料,此材料细胞毒性小,符合植入人体生物材料的细胞毒性要求。纳米SiO2/Nd-Fe-B材料通过胞吞方式进入细胞内,对细胞器影响轻微,代谢迅速。
中图分类号: